Des substrats avancés offrant une précision accrue, des performances mécaniques optimisées et une consommation d’énergie réduite pour des capteurs haute performance.
Les substrats SOI offrent un haut degré d'uniformité et de précision dans la fabrication des dispositifs, permettant ainsi d'obtenir des composants MEMS plus homogènes et plus fiables. Ceci est particulièrement important pour les applications exigeant des tolérances strictes et des performances élevées.
Le substrat SOI fournit une couche de silicium de haute qualité et à faible contrainte qui améliore les propriétés mécaniques des dispositifs MEMS. Cela permet d'obtenir une meilleure précision, des fréquences de résonance plus élevées et une meilleure stabilité des structures MEMS.
Les dispositifs MEMS-SOI présentent généralement une consommation énergétique inférieure à celle des technologies MEMS traditionnelles. La capacité parasite réduite et la gestion thermique efficace contribuent à réduire les besoins énergétiques, ce qui est avantageux pour les applications portables et alimentées par batterie.
Le MEMS-SOI est couramment utilisé dans les capteurs haute performance. Ces capteurs sont utilisés dans un large éventail d'applications, notamment l'IA Edge et l'IoT, l'industrie, l'automobile, la téléphonie mobile et le grand public.
Le MEMS-SOI offre les fonctionnalités essentielles aux capteurs hautes performances en termes de précision supérieure, de temps de réponse plus court, de robustesse mécanique accrue et de consommation d'énergie réduite.
CEA-Leti Innovation Days 2025
IMS 2025
ITF WORLD
©2025 Soitec